66问答网
所有问题
光刻胶和光刻机有什么区别
如题所述
举报该问题
推荐答案 2023-07-15
光刻是通过光刻胶把电路印制在基板上。
1、作用不同:光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,而光刻机是制造芯片的核心装备。
2、成分不同:光刻胶是感光树脂、增感剂和溶剂,而光刻机使用特殊光线将集成电路映射到硅片表面。
温馨提示:答案为网友推荐,仅供参考
当前网址:
http://66.wendadaohang.com/zd/UsissDpv9UnUnvv9nn9.html
相似回答
光刻机和光刻胶的区别
答:
1、使用方面
,光刻机又名掩模对准曝光机,是芯片制造流程中光刻工艺的核心设备,光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一。2、技术难度方面,光刻胶的目的主要有两个:光刻胶原理,小孔成像,技术难度已攻破,难度小,光刻机装备的核心部件有光源、镜头、工作台,每个部件都结构复杂、经过精心...
光刻机和光刻胶的区别
答:
这两个的主要有区别是性质不同,应用场景及制作工艺不同
,具体区别如下:1、性质:光刻胶是一种光敏混合液体,由光引发剂、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他添加剂组成。光刻机则是一种机械设备,它的作用是将光刻胶涂覆到硅片上并进行曝光、显影的过程。2、应用场景:光刻胶主要用于光刻工艺中,其性能...
光刻机和光刻胶的区别
答:
1、用途:光刻机的主要作用是通过曝光光源和光刻胶进行图案转移
,用于制造微细结构、线路和图案等。光刻胶是在光刻机上涂覆在硅片表面的一层材料,起到保护、传导和反射等作用。2、原理:光刻机利用光学系统将光源的光线经过掩膜上的图案放大后,投射到光刻胶上,使光刻胶局部发生化学或物理的变化。...
光刻胶和光刻机有什么区别
答:
1、作用区别:光刻胶是一种光敏混合液体
,由光引发剂、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他添加剂组成。光刻机是制造芯片的核心装备之一。作用是将光线通过光学系统投射到晶圆表面,形成特定的图形。2、
制造过程区别
:光刻胶的制造过程相对简单,只要将光刻胶涂覆在晶圆表面,并使用光线照射即可。光刻机的制造...
光刻胶和光刻机有什么区别
答:
区别
在于光刻是通过
光刻胶
把电路印制在基板上,然后在进行下一步,而
光刻机
就是要行进光刻这一步骤的机器。主要原理是光刻机利用特殊光线将集成电路映射到硅片表面,并要避免在硅片表面留下痕迹,需要在硅片表面涂上一层特殊的物质光刻胶。因此,光刻胶是光刻机研发的重要材料,而且它不止应用于芯片...
光刻机和光刻胶有区别
吗?
答:
光刻胶是
光刻机
研发的重要材料,是微电子技术中微细图形加工的关键材料,光刻机利用特殊光线将集成电路映射到硅片表面,想要在硅片表面留下痕迹就需要在其表面涂上光刻胶。光刻胶抗蚀性、表面张力上都有极高的要求,光刻胶布不止应用在芯片还有高端面板、发光二极管等。光刻机需要在
光刻胶的
基础上才...
大家正在搜
光刻机和光刻胶哪个难度更大
光刻机光刻胶哪个重要
光刻机和光刻胶是干嘛的
光刻机与光刻胶哪个厉害
光刻机跟光刻胶有什么关系
光刻间和光刻机的区别
光刻机与光刻胶
中国光刻机第一龙头股
阿石创有光刻机概念吗