光刻机和光刻胶的区别

Question

如题所述

Answer 1

这两个的主要有区别是性质不同，应用场景及制作工艺不同，具体区别如下：
1、性质：光刻胶是一种光敏混合液体，由光引发剂、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他添加剂组成。
光刻机则是一种机械设备，它的作用是将光刻胶涂覆到硅片上并进行曝光、显影的过程。
2、应用场景：光刻胶主要用于光刻工艺中，其性能和质量对芯片的制程精度和性能起着关键作用。而光刻机是制造芯片的核心装备。
通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上。
3、制造工艺：光刻胶的制造工艺主要是化学合成的方法，需要进行一系列的化学反应才能得到所需材料。
而光刻机的制造工艺主要还是机械加工的过程，需要精确的机械加工和电子控制。