光刻机和光刻胶的区别

Question

如题所述

Answer 1

用途，原理。
1、用途：光刻机的主要作用是通过曝光光源和光刻胶进行图案转移，用于制造微细结构、线路和图案等。光刻胶是在光刻机上涂覆在硅片表面的一层材料，起到保护、传导和反射等作用。
2、原理：光刻机利用光学系统将光源的光线经过掩膜上的图案放大后，投射到光刻胶上，使光刻胶局部发生化学或物理的变化。光刻胶的敏感剂会在光照下发生聚合或降解等反应，形成图案模板。