光刻胶和光刻机有什么区别

Question

如题所述

Answer 1

作用区别、制造过程区别等。
1、作用区别：光刻胶是一种光敏混合液体，由光引发剂、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他添加剂组成。光刻机是制造芯片的核心装备之一。作用是将光线通过光学系统投射到晶圆表面，形成特定的图形。
2、制造过程区别：光刻胶的制造过程相对简单，只要将光刻胶涂覆在晶圆表面，并使用光线照射即可。光刻机的制造过程更加复杂。光刻机需要设计和制造光学系统、机械结构、控制系统等多个组成部分，确保能够协同工作以实现高精度的光刻过程。