半导体制作工艺----掺杂

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掺杂原理介绍答：五价元素，如磷和砷，它们的化学特性赋予了硅额外的电荷。磷，拥有多种形态，而砷以其稳定的化合物闻名。三价元素，如硼和镓，硼以其硬而脆的特性，而镓则因其柔软和低熔点，常用于半导体制造。掺杂的艺术：扩散与离子注入掺杂的魔法并非瞬间完成，而是通过精细工艺实现。扩散法，如同在高温下让杂质...

微加工的掺杂工艺答：局部掺杂：在微系统和微电子器件的制造过程中，经常需要对基片的局部衬底进行掺杂。一般都需要通过两步来完成：-第一步掺杂原子的沉积，通常采用离子注入等工艺手段把合适类型和剂量的掺杂原子注入局部衬-底指定区域的材料内部；-第二步通过阱推扩散工艺使掺杂原子重新分布。离子注入是利用一个特殊的粒子加速...

均匀掺杂的半导体什么意思答：掺杂（英语：doping）是半导体制造工艺中，为纯的本征半导体引入杂质，使之电气属性被改变的过程。引入的杂质与要制造的半导体种类有关。轻度和中度掺杂的半导体被称作是杂质半导体，而更重度掺杂的半导体则需考虑费米统计律带来的影响，这种情况被称为简并半导体。

什么叫半导体掺杂技术答：1、半导体的常用掺杂技术主要有两种，即高扩散和离子注入。掺入的杂质主要有两类，第一类是提供载流子的受主杂质或施主杂质，第二类是产生复合中心的重金属杂质。2、热扩散技术是对于施主或受主杂质的掺入，就需要进行较高温度的热扩散。为了让晶体中产生出大量的晶格空位，所以，就必须对晶体加热，让...

半导体的掺杂方式有哪些?答：掺杂是将少量杂原子（掺杂剂）引入半导体中，以改变其电学性质的一种方法。常见的掺杂方式有四种：离子注入：使用加速器将高能离子注入半导体晶片中；扩散法：将含有所需杂原子的气体或液体在高温下与半导体反应，使杂原子扩散到半导体内部形成浓度分布；气相外延法：将所需杂原子的气体混合在载气中，通过...

介绍下半导体的掺杂问题?答：杂质半导体：通过扩散工艺，在本征半导体中掺入少量合适的杂质元素，可得到杂质半导体。P型半导体的导电特性：掺入的杂质越多，多子（空穴）的浓度就越高，导电性能也就越强。结论：多子的浓度决定于杂质浓度。少子的浓度决定于温度。PN结的形成：将P型半导体与N型半导体制作在同一块硅片上，在它们的交...

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