半导体工艺中,掺杂有哪几种方式?

如题所述

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第1个回答 2020-01-27

两种
p型半导体
n型半导体

第2个回答 2007-10-16

扩散，离子注入两种

第3个回答 2019-08-12

很多种，扩散啊，离子注入啊，你去找找半导体工艺的书看吧，很详细的

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掺杂有几种方式,能掺杂什么,对器件性能有什么影响?答：掺杂是将少量杂原子（掺杂剂）引入半导体中，以改变其电学性质的一种方法。常见的掺杂方式有四种：离子注入：使用加速器将高能离子注入半导体晶片中；扩散法：将含有所需杂原子的气体或液体在高温下与半导体反应，使杂原子扩散到半导体内部形成浓度分布；气相外延法：将所需杂原子的气体混合在载气中，通过热...

半导体工艺中掺杂方式有那些??详细些谢谢答：其它掺杂大多是在半导体生长过程中加入的比如拉制GaAs单晶过程中掺入Si

半导体制作工艺---掺杂答：（3）用腐蚀剂去掉窗口内的二氧化硅，但不除去硅，使窗口的硅表面暴露在外。（4）把整个硅片置于掺杂源下，通过扩散或离子注入使掺杂原子进入二氧化硅未覆盖的区域中，从而改变硅的杂质性质。5.1概述掺杂是指将需要的杂质原子掺入到特定的半导体区域中，用于对衬底基片进行局部掺杂。以达到改变半导体电学性...

本征半导体与参杂半导体有什么不同答：掺杂分为P型和N型两种。P型半导体是通过掺杂三价元素（如硼、铝等）而形成的，它会在晶体中引入空穴。N型半导体是通过掺杂五价元素（如磷、砷等）而形成的，它会在晶体中引入额外的自由电子。掺杂半导体的导电性能明显高于本征半导体，因为掺杂增加了载流子的数量，从而增强了电导率。

半导体材料中,离子注入与离子掺杂有什么区别答：离子掺杂应该就是通过离子注入工艺来实现的包括施主杂质或受主杂质的掺杂，掺杂方式还有扩散掺杂，不过精确度不高而且掺杂时间过长，大部分的半导体或面板等行业都是离子注入方式。离子注入的优点有1.纯度高：离子是通过磁分析器选出来的；2.均匀度好：同一平面均匀度一般可保证在±3%；3.能够精确控制注入...

半导体材料中,离子注入与离子掺杂有什么区别?答：在半导体工艺技术中，离子注入具有高精度的剂量均匀性和重复性，可以获得理想的掺杂浓度和集成度，使电路的集成、速度、成品率和寿命大为提高，成本及功耗降低。这一点不同于化学气相淀积，化学气相淀积要想获得理想的参数，如膜厚和密度，需要调整设备设定参数，如温度和气流速率，是一个复杂过程。上个...

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