（2011?安徽）W、X、Y、Z是四种常见的短周期元素，其原子半径随原子序数变化如下图所示．已知W的一种核素

Question

（2011?安徽）W、X、Y、Z是四种常见的短周期元素，其原子半径随原子序数变化如下图所示．已知W的一种核素的质量数为18，中子数为10；X和Ne原子的核外电子数相差1；Y的单质是一种常见的半导体材料；Z的电负性在同周期主族元素中最大．（1）X位于元素周期表中第______ 周期第______ 族；W的基态原子核外有______ 个未成对电子．（2）X的单质和Y的单质相比，熔点较高的是______（写化学式）；Z的气态氢化物和溴化氢相比，较稳定的是______ （写化学式）．（3）Y与Z形成的化合物和足量水反应，生成一种弱酸和一种强酸，该反应的化学方程式是______．（4）在25°C、101kPa下，已知Y的气态化物在氧气中完全燃烧后恢复至原状态，平均每转移1mol 电子放热190.0kJ，该反应的热化学方程式是______．

Answer 1

由信息及质子数+中子数=质量数，则W的质子数为18-10=8，则W为氧元素；由X和Ne原子的核外电子数相差1及X的原子半径比氧原子的半径大，则X为钠元素；
Y的单质是一种常见的半导体材料，Y为短周期元素，则Y为硅元素；Z的电负性在同周期主族元素中最大及原子半径X＞Y＞Z，则Z为氯元素；
（1）X为钠元素，位于周期表中第三周期第ⅠA族，W为氧元素，则基态原子核外电子排布为1S²2S²2P⁴，P能级有三个轨道，由洪特规则和泡利原理可知P轨道上只有2个未成对电子，
故答案为：三；ⅠA；2；
（2）因钠单质为金属晶体，而硅单质为原子晶体，则熔点较高的是Si，因HCl中键长比HBr中键长短，键长越短越稳定，则HCl稳定，故答案为：Si；HCl；
（3）Y与Z形成的化合物为SiCl₄，与足量水反应生成一种弱酸和一种强酸，由元素守恒可知应生成H₂SiO₃和HCl，反应为SiCl₄+3H₂O═H₂SiO₃↓+4HCl，
故答案为：SiCl₄+3H₂O═H₂SiO₃↓+4HCl；
（4）Y的气态氢化物为SiH₄，在氧气中完全燃烧后恢复至原状态，平均每转移1mol 电子放热190.0kJ，则1molSiH₄燃烧转移8mol电子放热为190.0kJ×8=1520kJ，
则该反应的热化学方程式为SiH₄（g）+2O₂（g）

点燃  .

SiO₂（s）+2H₂O（l）△H=-1520kJ/mol，故答案为：SiH₄（g）+2O₂（g）

点燃  .

SiO₂（s）+2H₂O（l）△H=-1520kJ/mol．