背散射电子和二次电子的区别

如题所述

背散射电子和二次电子的区别如下:

二次电子成像是用被入射电子轰击出的样品外层电子成像,能量低,只能表征样品表面,分辨率比较高。背散射电子是入射电子被样品散射然后成像,能量很高,接近入射电子。可以反应样品内部比较深的信息,分辨率相对较低。

二次电子介绍:

由于原子核和外层价电子间的结合能很小,当原子的核外电子从入射电子获得了大于相应的结合能的能量后,可脱离原子成为自由电子。如果这种散射过程发生在比较接近样品表层处,那些能量大于材料逸出功的自由电子可从样品表面逸出,变成真空中的自由电子,即二次电子。

二次电子来自表面5-10nm的区域,能量为0-50eV。 它对试样表面状态非常敏感,能有效地显示试样表面的微观形貌。由于它发自试样表层,入射电子还没有被多次反射,因此产生二次电子的面积与入射电子的照射面积没有多大区别,所以二次电子的分辨率较高。

扫描电镜的分辨率一般就是二次电子分辨率。 二次电子产额随原子序数的变化不大,它主要取决与表面形貌。入射电子与样品核外电子碰撞,使样品表面的核外电子被激发出来的电子,是作为SEM的成像信号,代表样品表面的结构特点。

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