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28nm光刻机通过验收
光刻机
是干什么用的 重要吗 能国产吗?
答:
在现在的各种各样的电子产品中,芯片可以说是最重要的零件,而
光刻机
就是芯片制造的核心设备之一。按照用途可以分为好几种,用于生产芯片;用于封装;用于LED制造领域。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板,国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。
芯片产业各环节国产率梳理,我们离芯片完全国产还有多远要走?_百度知 ...
答:
10.ALD、离子注入(国产率0%),这一块往往是跟其他设备配套的,目前
28nm
其实已经够市面上大多数电子产品芯片的制备需求。从这里可以看出,我们在半导体设备这块的国产化率还不是很高,但是在很多设备上其实已经达到目前主流电子产品芯片的制造要求。但是半导体设备领域里的
光刻机
是我们的痛点,没有先进的...
华为面临芯片断供,中科院院士表示
光刻机
是次要,这才是最大短板_百度知...
答:
2018初,中芯国际便以1.5亿美金的天价,向荷兰ASML购买了一台EUV
光刻机
,迄今仍未取得,这足已突显我国在光高新 科技 层面有多被动。中国也是有公司致力于攻破光刻机技术,在其中最具标志性的便是上海微电子。前不久,上海微电子就公布将于2021-2022年交货一台国产光刻机,但它是
28nm
的光刻机。...
光刻机
可以刻几层
答:
光刻机
刻制芯片,根据芯片的设计需求,可以刻制少到几层,多到几十层甚至上百层。通常情况下,
28nm
的IC最多可使用50层光罩,14nm/10nm的IC使用60层光罩,7nm有80层光罩,5nm则达到100层光罩。台积电在7nm芯片上中的12层使用EUV,68层都使用DUV。在5nm节点,台积电将EUV 用于其中22层,其余78 层则...
国产
光刻机
和荷兰光刻机的差距在哪里
答:
摘要:
光刻机
是光刻工艺的核心设备,光刻的工艺水平直接决定芯片的制程和性能水平,目前光刻机做的最好的国家就是荷兰,我国虽然也有研制光刻机的能力,但国产光刻机与国外顶尖光刻机存在的差距比较明显。下面来了解下国产光刻机和荷兰光刻机的差距。一、光刻机中国能造吗可以。目前中国最牛的光刻机...
华为搞IDM现实吗?
答:
如果让华为自己建设IDM,
光刻机
这块最多也就等国产
28nm
节点的设备,不可能自己去研发,目前这设备差不多就是在以举国之力研发,单靠华为自身的力量是不行的。代工这块华为倒是可以自己搞,我觉得会比中芯的进展更快。 剩下还有EDA这类芯片设计软件,这又是另一个维度的问题了,你要让华为这样一个硬件为主的厂商建设...
28
纳米芯片规模量产多少
答:
中企布局
28nm
有何优势?随着28nm越来越受众多厂商重视,而且类似的市场需求还在增长,由此可见,中芯国际布局28nm的举动选对了。那么中企布局28nm有何优势呢?首先28nm已经是成熟工艺,更容易解决核心技术难题。28nm不需要顶级的EUV
光刻机
,也不用最高端的EUV光刻胶,对相关的配套技术没有那么高的要求。从...
如果没有专利限制中国可以找最先进的
光刻机
吗
答:
不可以。当然最先进的
光刻机
,是荷兰ASML公司制造的。由于受到专利限制,我国没法买ASML制造的光刻机。当前上海微电子已研发出支持
28nm
工艺的光刻机,首台已于2021年初交付客户。28nm虽然相当于荷兰ASML公司十年前的水平,但是却代表了我国目前最高端的技术。
揭秘:我们现在能量产几纳米的芯片?
答:
就以
光刻机
为例,纵然是技术强大如美国,也不能独立制造出光刻机。他们也需要从德国、日本、瑞典等国的手中购买镜头、光学器材、轴承等材料。很多朋友希望我们能够从IC产业链的各个环节都实现替代,从而造出100%国产化的芯片,目前看显然是不太现实的。但我们面对的不仅仅是一项两项技术管制,而是美国...
中国国产的
光刻机
最小制程能达到多少?
答:
90纳米。封装
光刻机
在国内市场已占据不小的份额,这是国产光刻机取得的进步。然而在代表着光刻机技术水平的晶圆制造光刻机方面,上海微装可生产加工90nm工艺制程的光刻机,这是国产光刻机最高水平,而ASML如今已量产7nm工艺制程EUV光刻机,两者差距不得不说非常大。光刻机的最小分辨率、生产效率、良...
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