90纳米。
封装光刻机在国内市场已占据不小的份额,这是国产光刻机取得的进步。然而在代表着光刻机技术水平的晶圆制造光刻机方面,上海微装可生产加工90nm工艺制程的光刻机,这是国产光刻机最高水平,而ASML如今已量产7nm工艺制程EUV光刻机,两者差距不得不说非常大。
光刻机的最小分辨率、生产效率、良率均在不断发展。 光刻机的最小分辨率由公示 R=kλ/NA,其中 R 代表可分辨的最小尺寸,对于光刻技术来说R 越小越好,k 是工艺常数,λ 是光刻机所用光源的波长。
NA 代表物镜数值孔径,与光传播介质的折射率相关,折射率越大,NA 越大。光刻机制程工艺水平的发展均遵循以上公式。此外光刻机的内部构造和工作模式也在发展,不断提升芯片的生产效率和良率。
扩展资料:
注意事项:
进入机仓检查或维修必须切断电源,挂上警示牌并与中控,检修或检查时必须使用36V以下照明。
必须经常监视机器运转情况,如听任何不正常声音,应立即停机检查,查明原因并处理完故障后,方可重新起动。
正常运转中,应特别注意电机和转子的温度变化,保证充足的油润滑、水冷却,超过规定值立即停机检查。
运行时不准打开观察孔,以防物料飞出伤人,每周应检查一次转子卡箍螺栓的松紧情况。
参考资料来源:百度百科-光刻机
参考资料来源:人民网-世界首台分辨力最高的国产SP光刻机到底牛在哪?
能达到65nm?不错,我家amd4600+就是这个工艺
追答基本上都是90,然后做得兼容工艺到了65,估计就是类似沉浸式光刻的法子呗,生产线过渡一下。现在TSMC代工,28nm,Intel到了22,甩咱多少代啊。
而且,我没有关于咱们国家65生产线的多少消息,良品率多少更不清楚。
intel市什么类型的光刻机?
追答这个可不知道。生产线资料都是人家厂里的事儿,很多不会透露的。一般都是从美国应用材料公司进的设备。
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