光谱检测硅有波动的原因

如题所述

上下表面光的干涉引起的。从这些干涉条纹中可以得到样品的色散关系,膜厚等。晶体硅内部是排列规则的硅原子。非晶硅是短程有序长程无序排列的硅原子,因此二者的带隙不同,Si,a-Si1.75eV左右,光吸收率不同。非晶硅沉积是本身就引入了H原子,钝化了Si悬挂键,氢化非晶硅本身就是一种良好的钝化材料,非晶硅电池不需要钝化层。硅片本身就分为P、N型,会出现相应电池。目前工业常用的是P型硅片,是因为对P型硅片进行掺杂的B,易于在硅片中均匀分布,N型硅片掺杂工艺不易于控制。
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