第1个回答 2024-07-01
1、荷兰ASML公司，正式名称为Advanced Semiconductor Material Lithography，其在中国大陆的中文名为阿斯麦，在中国台湾的中文名为艾司摩尔。公司的注册名称为ASML Holding N.V。
2、光刻机，也被称作掩模对准曝光机、曝光系统或光刻系统。其中，常用的光刻机类型为掩模对准光刻机，因此也简称Mask Alignment System。光刻工艺通常包括硅片清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等多个步骤。
3、光刻机的工作原理是在芯片加工过程中，利用光源能量控制和形状调控手段，使光束穿过带有电路图案的掩模，并通过物镜补偿光学误差，将电路图案按比例缩小映射至硅片上。随后使用化学方法进行显影，从而在硅片上形成电路图案。一般而言，光刻工艺涉及硅片清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等多个步骤。完成一次光刻后，芯片可继续涂胶和曝光。线路图案越复杂的芯片，其层数越多，因此也需要更精确的曝光控制。
来源：百度百科—ASML、百度百科—光刻机