怎样测量薄膜厚度？

Question

怎样测量薄膜厚度？

Answer 1

微米级、纳米级的薄膜，可以用薄膜厚度测量仪AF-3000系列测量；
AF系列精度达0.1nm，可测10层膜的膜厚，还支持客制化，可离线/在线/Mapping等多场景应用。
AF系列采用的是分光干涉原理，从测量原理来看，只能测透光或半透光的薄膜，理论上来说金属和类金属化合物这类不透光材质的薄膜，是无法检测的。
但是如果这个薄膜薄到一定程度，部分材质的薄膜会呈现透光性，这时，薄膜厚度测量仪便可测量出金属材质薄膜和类金属化合物薄膜的厚度，AF系列也测试过很多不透光材质的薄膜，如铬、镍、钛等。

但不同材质、不同厚度的金属薄膜和类金属化合物薄膜，对不同波长的光是否呈现透光性是不确定的。AF系列采用的是氘灯和钨卤素灯，最大光谱波长覆盖180nm~2400nm，若是有什么不透光材质薄膜需求检测，AF系列也可以帮忙做一下测试，看看可行性。
若不透光材质的薄膜在产品上不是全覆盖的，也可以采用白光干涉仪AM-7000系列进行检测，AM系列精度更高，最高可达0.03nm。

Answer 2

可以用高精度的涂层测厚仪PD-CT2，下面垫一块铁基体，薄膜太软了不行，可以用平头有的测厚规来测，但是精度不高

Answer 3

由于薄膜的厚度是各层树脂厚度的总和，如果薄膜的整体厚度均匀性差，其中各层树脂的厚度分布也会存在差异。毫无疑问，对涂层厚度的检测将更有利于有效控制薄膜各层的厚度均匀性，但对于多层薄膜若想精确测量每一涂层的厚度，在相应的厚度检测设备上就需要有非常大的投资，并随着薄膜层数的增长而加大，给企业带来较大的经济负担。比较经济的方式是对部分价格昂贵的涂层材料使用大成精密光学干涉测厚仪对涂层厚度的检测本回答被提问者和网友采纳

Answer 4

光学薄膜测厚仪 (SpectraThick Series) 的核心技术介绍和原理说明

SpectraThick series的特点是非接触, 非破坏方式测量，无需样品的前处理，软件支持Windows操作系统等。ST series是使用可视光测量wafer，glass等substrates上形成的氧化膜，氮化膜，Photo-resist等非金属薄膜厚度的仪器。

测量原理如下：在测量的wafer或glass上面的薄膜上垂直照射可视光，这时光的一部分在膜的表面反射，另一部分透进薄膜，然后在膜与底层 (wafer或glass)之间的界面反射。这时薄膜表面反射的光和薄膜底部反射的光产生干涉现象。SpectraThick series就是利用这种干涉现象来测量薄膜厚度的仪器。

仪器的光源使用Tungsten
Lamp，波长范围是400 nm ~ 800 nm。从ST2000到ST7000使用这种原理，测量面积的直径大小是4μm ~ 40μm (2μm ~ 20μm optional)。ST8000-Map作为K-MAC (株) 最主要的产品之一，有image processs功能，是超越一般薄膜厚度测量仪器极限的新概念上的厚度测量仪器。测量面积的最小直径为0.2μm，远超过一般厚度测量仪器的测量极限 (4μm)。顺次测量数十个点才能得到的厚度地图 (Thickness Map) 也可一次测量得到，使速度和精确度都大大提高。这一技术已经申请专利。

韩国K-MAC (株) SpectraThick series的又一优点是一般仪器无法测量的粗糙表面 (例如铁板，铜板) 上形成的薄膜厚度也可以测量。这是称为VisualThick OS的新概念上的测量原理。除测量薄膜厚度外还有测量透射率，玻璃上形成的ITO薄膜的表面电阻，接触角度 (Contact Angle) 等的功能，目前国内外知名的半导体行业及光刻胶等相关行业的很多企业都选择K-MAC膜厚仪。广州市金都恩科精密仪器有限公司大陆总经销。

产品说明

本仪器是把UV-Vis光照在测量对象上，利用从测量对象中反射出来的光线测量膜的厚度的产品。

这种产品主要用于研究开发或生产导电体薄膜现场，特别在半导体及有关Display工作中作为

In-Line monitoring 仪器使用。

产品特性

1) 因为是利用光的方式，所以是非接触式，非破坏式，不会影响实验样品。

2) 可获得薄膜的厚度和 n,k 数据。

3) 测量迅速正确，且不必为测量而破坏或加工实验样品。

4) 可测量 3层以内的多层膜。

5) 根据用途可自由选择手动型或自动型。

6) 产品款式多样，而且也可以根据顾客的要求设计产品。

7)可测量 Wafer/LCD 上的膜厚度 (Stage
size 3“ )

8)Table Top型, 适用于大学,研究室等