光刻工厂和光刻机的区别是：光刻工厂是一个专门用于生产半导体芯片的工厂、光刻机是光刻工厂中的一种关键设备。
1、光刻工厂是一个专门用于生产半导体芯片的工厂。它通常包括多个工艺步骤，如沉积、腐蚀、光刻、清洗等。光刻工厂是半导体芯片生产的核心环节之一，负责将设计好的电路图案转移到硅片上。
2、光刻机是光刻工厂中的一种关键设备。它是一种利用光源和光刻胶将电路图案投射到硅片上的设备。光刻机通常由光源、光刻胶、掩膜、镜头等部件组成。光刻机的主要作用是将设计好的电路图案通过光的照射和光刻胶的光敏性质转移到硅片上，形成准确的电路结构。
光刻机主要厂商及品牌
光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。
其中荷兰公司ASML为下一代EUV光刻系列的唯一供应商，在半导体价值链中具有强大地位，2021年前三季度出货31台，其TWINSCAN系列是世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。
全球绝大多数半导体生产厂商，都向ASML采购TWINSCAN机型，比如英特尔（Intel）、三星（Samsung）、海力士（Hynix）、台积电（TSMC）、中芯国际（SMIC）等。
以上内容参考：百度百科-光刻机
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