台积电推出增强版7nm和5nm制造工艺

Question

如题所述

Answer 1

　　7月31日，有外媒报道称，台积电已经推出7nm深紫外（N7 / DUV）和 5nm极紫外（N5 / EUV）制造工艺的性能增强版本，但台积电官方未就这两项新工艺版本发布任何通告。

　　此前，台积电在日本的2019 VLSI Symposium超大规模集成电路研讨会上就宣布了两种新工艺，分别是7nm、5nm的增强版，但没有过多宣传和介绍。据报道，这次台积电7nm工艺的增强版代号为“N7P”，5nm工艺的增强版代号为“N5P”。有业内人士表示，N7P和N5P技术是专为那些需要运行更快、消耗更少电量的芯片而设计的。

　　据悉，7nm工艺的N7P在原有第一代N7 7nm工艺的基础上，继续使用DUV深紫外光刻技术，设计规则不变、晶体管密度也不变，只是优化了前线和后线，能在同等功耗下带来7％的性能提升，或者在同等性能下降功耗降低10％；5nm工艺的N5P也是优化前线和后线，可在同等功耗下提升7％性能，或者在同等性能下降低15％功耗。目前N7P工艺已经可用，但台积电官方没有公布任何具体客户。

　　台积电此前曾表示，7nm和6nm工艺才是长期工艺节点，5nm工艺则用于升级过渡。而据目前已知消息，台积电下个重大工艺节点将是3nm制造工艺，并且已经取得重大进展，有望在2022年进行初步量产。

　　本文编辑：王稀仕