第1个回答 2023-09-13
中芯国际的光刻机是从荷兰阿斯麦尔公司购买来的。
中芯国际是一家成立于2000年的半导体制造企业，总部位于上海张江产业园区，是中国最具规模的集成电路设计、制造、封装和测试企业之一。中芯国际14nm光刻机的来源是荷兰阿斯麦尔公司。荷兰阿斯麦尔光刻机目前几乎处于全球垄断地位，市场占有率高于90%，中芯国际的光刻机也是荷兰阿斯麦尔公司的。
中芯国际是纯商业性集成电路代工厂，提供 0.35微米到14纳米制程工艺设计和制造服务。中芯国际自创建以来，已经成长为中国大陆规模最大、技术水准最高、世界排名第四的晶片代工企业。
光刻机的种类
1、接触式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。
2、接近式曝光（Proximity Printing）：掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙（Gap），Gap大约为0-200μm。可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤，使掩膜和光刻胶基底能耐久使用；掩模寿命长（可提高10 倍以上），图形缺陷少。接近式在现代光刻工艺中应用最为广泛。
3、投影式曝光（Projection Printing）：在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制作。优点：提高了分辨率；掩膜板的制作更加容易；掩膜板上的缺陷影响减小。
以上内容参考：百度百科-中芯国际集成电路制造有限公司
相似回答