半导体代工厂里做蚀刻的工程师可以解释一下etch bias的概念吗？

问题实质：产生bias 的原因有哪些？为什么？

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推荐答案 2012-11-21

楼上的不知道不要扯淡好吗？etch bias是指刻蚀后的CD减去刻蚀前的CD的bias值，也就是ETCH CD-PHOTO CD.
CD bias可以表征刻蚀量和刻蚀均一性。是生产过程中非常重要的数据参数

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第1个回答 2012-11-10

etch bias字面理解就是刻蚀偏差，因为我们生产的时候不可能完全做到100%对准，于是会产生不可避免的误差

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光刻\湿刻\干法刻蚀有何不同答：干蚀刻法可直接利用光阻作蚀刻之阻绝遮幕，不必另行成长阻绝遮幕之半导体材料。而其最重要的优点，能兼顾边缘侧向侵蚀现象极微与高蚀刻率两种优点，换言之，本技术中所谓「活性离子蚀刻」(reactive ion etch；RIE) 已足敷「次微米」线宽制程技术的要求，而正被大量使用中。

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