Intel DG2高端独显为何选用台积电7nm制程?

如题所述

Intel在最近的CES上首次展示了其代号为DG1的高性能Xe_LP架构独显样品,并向核心开发者提供了。这款显卡以小巧的外观和高效设计著称,无需额外供电,仅需单风扇就能运行,据说GPU的功耗甚至不超过25W。


据印度媒体报道,Intel正开发第二款DG2独显,令人意外的是,这款新显卡将采用台积电的7纳米制程技术,定位在高端市场。


尽管从理论上讲,将DG2的生产外包给台积电是为了加速上市,但报道指出其发布日期定在2022年,这与Intel自家7纳米工艺预计在明年四季度可用的时间表形成了对比,这似乎有些不合逻辑。


有消息指出,Intel的7纳米工艺主要用于CPU生产,而GPU部分,Xe_HPC架构的Ponte Vecchio或许会受益。这表明Intel出于产能分配的考虑,不得不依赖台积电。实际上,台积电并非首次为Intel制造产品,之前他们曾负责过基带、Atom处理器和芯片组的生产。


目前,DG1的性能在1080P分辨率下《星际战甲》的表现仅能达到30FPS,大致相当于2012年的GTX 650。而对于即将推出的DG2,我们不禁好奇,它是否能具备挑战GTX 1060/RX 480的性能。

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