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光刻机的作用和使用方法
cpu是用
光刻机
做的吗
答:
不是,主流的英特尔处理器会有20亿个晶体管,高端产品可以达到60亿个,一个个的链接
方法
不现实,所以采用
光刻
蚀技术。光刻蚀过程就是
使用
一定波长的光在感光层中刻出相应的刻痕,由此改变该处材料的化学特性。这项技术对于所用光的波长要求极为严格,需要使用短波长的紫外线和大曲率的透镜。刻蚀过程还...
降低
光刻机
投影最小图像
的方法
答:
降低
光刻机
投影最小图像
的方法
:1、调近光刻机投影与帷幕的距离。2、调节光刻机投影的镜头调节装置,使投影画面变小。
通过哪些
方法
降低
光刻机
投影最小图像的尺寸
答:
降低
光刻机
投影最小图像的尺寸的
方法
如下:1、改变投影仪的屏幕尺寸。2、调整像素点大小。3、改变投影
机的
焦距。4、降低投影机的亮度。5、改变投影机的垂直视角。6、改变投影机的水平视角。7、改变投影机的聚焦距离。8、
使用
更小尺寸的光刻网点。
那些
方法
可以降低
光刻机
投影最小图像的尺寸
答:
方法
包括:1、
使用
高倍镜头可以将小图像放大,从而降低最小图像尺寸。2、增加光源强度可以使图像更清晰,从而降低最小图像尺寸。3、通过降低光源波长、离轴照明、光学临近修正方法降低
光刻机
投影最小图像的尺寸。
光刻机
残留的光刻胶该如何处理才能去除干净?
答:
等离子清洗机表面处理机应用包括处理、灰化、改性、蚀刻等过程。选择等离子清洗设备,不仅能彻底除去
光刻
胶和其他有机物,而且能激活晶圆表面,提高晶圆表面的润湿性。聚合物、包括形状不一的槽孔和狭长的孔洞内的微粒,
使用
等离子可以轻而易举清洗掉。
不用
光刻机
euv!5纳米芯片制造
方法
专利公布
答:
5nm芯片无需
光刻机
!中国科技公司已申请制造专利。9月15日,一家中国科技公司申请的“5纳米芯片制造的直接蚀
刻方法
”专利正式公布。该发明涉及芯片设计及制造。这项发明的亮点在于,不用EUV光刻机或DUV光刻机,不需要光刻过程,直接蚀刻就可以制造5纳米芯片。此专利一经公布,便引起了大量网友的关注。...
有哪些
方法
可以降低
光刻机
投影最小图像的尺寸
答:
有哪些
方法
可以降低
光刻机
投影最小图像的尺寸,降低光源波长,离轴照明,光学临近修正方法。降低光刻机投影最小图像的尺寸,可以通过降低光源波长、离轴照明、光学临近修正等方法降低光刻机投影最小图像的尺寸。
电子芯片里面那么多的晶体管是怎么安装生产的?谢谢
答:
2、晶圆涂膜 晶圆涂膜能抵抗氧化以及耐温能力,其材料为光阻的一种。3、晶圆光刻显影、蚀刻 在晶圆(或衬底)表面涂上一层光刻胶并烘干。烘干后的晶圆被传送到
光刻机
里面。光线透过一个掩模把掩模上的图形投影在晶圆表面的光刻胶上,实现曝光,激发光化学反应。对曝光后的晶圆进行第二次烘烤,即所谓...
操纵原子,重建它们的排列
方式
,是比
光刻机
还具发展前景的黑科技
答:
这种
方法
是将半导体硅材料在 紫外光 的照射作用下,利用 光学 化学反应 和 化学 物理刻蚀 的方法,将细微到纳米级的电路图复刻到硅单晶表面。 经过
光刻
加工的硅芯片也可以算作是一种特殊材料,因为通过加工精度细微到纳米级的微观结构,可以使硅芯片在通电后可以具备传递、计算和存储等神奇
的功能
(需要软件的配合)。
液晶显示器的结构
答:
曝光显影刻蚀去除
光刻
胶检验结束 其中刻蚀
方法
有干刻蚀法和湿刻蚀法两种。上述各种工序的加工原理与集成电路制造工艺中
使用
的相应工序的加工方法原理类似,但是,由于液晶显示器中的玻璃基板面积较大,TFT加工工艺中采用的加工方法的工艺参数和设备参数有其特殊性。 2.2滤光板加工工艺(a)玻璃基板 (b)...
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