66问答网
所有问题
当前搜索:
光刻机的作用和使用方法
普通小规模集成电路怎样生产,需要
光刻机
吗?
答:
超大规模集成电路,大规模集成电路,普通小规模集成电路,单个的晶体管,单个的二极管,薄膜集成电路,微波集成电路,集成光路,都需要
光刻机
;只不过要求的精度不同。普通小规模集成电路的生产
方法与
大规模集成电路、超大规模集成电路完全相同。都要经历1.绘多种图形;2.制版形成类似于照相底板的多个模板(...
光刻机
退片信息丢失,显示问号怎么办?
答:
因此您可以尝试将光刻机关机,等待几分钟后再重新启动。2、检查退片信息:您可以检查退片信息是否正确,并确保其与光刻机系统中的信息相匹配。信息不正确,可以更改信息并重新输入。3、与技术支持人员联系:以上
方法
都无法解决问题,您需要联系
光刻机的
技术支持人员,让他们进行进一步的检查和修复。
中国芯片研究
有什么
了重大突破?华为是否迎来转机?
答:
第一就是这个计数确实取得了一定突破,原来我们凭借
光刻机
去制造的这个芯片,最高的刑度,应该也就是到14纳米左右,跟我们日常的手机所
使用
的78甚至说是五国的芯片比起来差太多了。自然没有办法用自己的这个光刻机来制造,因为进度不够,所以我们的芯片才被国外卡着脖子,但这一次他能够达到这样的精度...
怎么在硅片上形成二氧化硅阵列
答:
在硅片上形成二氧化硅(SiO2)阵列通常可以通过以下步骤实现:1. 制备硅片:选择高纯度的硅片作为基材。确保硅片表面光洁度良好,无杂质。2. 清洗和去除氧化层:
使用
适当的清洗溶液,如酸性溶液(例如HF溶液)进行表面清洗,去除表面氧化层和杂质,确保硅片表面干净。3. 选择合适的制备
方法
:根据需要形成的...
生产碳基芯片需要
光刻机
吗?
答:
人们不断在寻找新的材料来突破碳基芯片遇到的这个瓶颈,目前最先进的碳纳米管制造的就是非常理想的晶体管材料,基于碳纳米管制造的碳基芯片并不需要
光刻机
。硅基芯片和碳基芯片的生产
方式
世界上制造芯片的维纳结构主要有两种策略:1. Top-Down:从上而下
的方法
硅基芯片的制造就是利用了从上而下的...
简述涂
光刻
胶
的方法
答:
此外,间距线宽的变化会在一定程度上影响两个微透镜的相对位置,而外形尺寸则是影响曝光时的对准,这些会在一定程度上影响微透镜的分布,但是效果并不明显,相对于负压过程中的拉伸几乎可以忽略不计。曝光精度主要受限于
光刻机的
设计精度,一是曝光
方式
,二是套刻精度,这里主要讨论曝光方式的影响。接触式...
造
光刻机
比原子弹更难?为何荷兰有人说:图纸给我们也造不出来?_百度知 ...
答:
因为不仅需要图纸还需要技术,光靠一个国家的科学研究和制造能力是很难的。从技术难度和供应链系统的角度来看,
光刻机的
制造更难。 特别是高端光刻机的制造不是一个国家的制造系统和科研能力能达到的。原子弹的制造理论
和方法
并不复杂,特别是在上世纪各国相继制造核弹后,核弹的制造方法不再是秘密。20...
芯片制造之难,难过原子弹
答:
就拿半导体芯片制造环节所用到的一台设备——光刻机来说,做光刻机做得最好的是荷兰ASML,它做的极紫外
光的光刻机
,全球只此一家。虽然极紫外光刻机是在荷兰制造,但是有两千多家厂商给它提供零部件,这两千多家厂商是来自世界各个发达国家的顶尖企业,我们管它们叫“隐形冠军”,或者叫行业翘楚。 所以你就看出来...
掩膜的原理是什么
答:
光刻分辨率取决于照明系统的部分相干性、掩模图形空间频率和衬比及成象系统的数值孔径等。相移掩模技术的应用有可能用传统的光刻技术和i线
光刻机
在最佳照明下刻划出尺寸为传统
方法
之半的图形,而且具有更大的焦深和曝光量范围。例如
使用
PSM,在NA=0.5,λ=248nm,分辨率可达0.15um;NA=0.6,λ=365...
中国如果可以做出高端
光刻机
,欧美国家会
有什么
反应?
答:
在现阶段我们国产
光刻机
还很弱小时,即使是欧美国家也没有办法阻挠,最多也就是封锁封锁技术和人才。但一旦有一定形成一定的气候时,他们可能就会有各种各样
的方法与
借口进行阻挠到他们市场销售等等。但就像以前家用电器发展一样,当我们强大到一定程度时,对他们形成反冲击又不得不接受我们,只要产品品质...
<涓婁竴椤
1
2
3
4
5
6
7
8
涓嬩竴椤
其他人还搜