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能生产euv光刻胶的上市公司
日本为什么不担心芯片和
光刻
机的问题?
答:
高端
光刻
机被称为世界上最精密的仪器,零部件数量达数万甚至十几万个,供应商几百家,最贵报价数亿美元一台,堪称现代光学工业之花,制造难度非常大。 现在全世界只有少数几家
公司能够
制造,主要以荷兰ASML、日本Nikon和日本Canon三大品牌为主。从市场占有率来讲,ASML占据80%以上,在
EUV
极紫外光领域,ASML是独家
生产
者。
如果比亚迪研发7nm芯片和7nm
光刻
机,能取代富士康吗?
答:
目前高端的
EUV光刻
机是荷兰ASML
公司生产
的,包括台积电也没有生产高端光刻机的能力,台积电和三星都是从ASML公司购买光刻机,这是因为光刻机是全球很多个国家共同的结晶,由数万个零部件构成,依靠单一公司要想直接做出高端EUV光刻机难度是非常高的,我国最先进的光刻机生产企业是上海微电子,用了近20年时间,现在也只能...
我国唯一一台
euv光刻
机现状
答:
8.
EUV光刻
机的性能指标包括支持的基片尺寸、分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性以及
生产
效率等。9. 片台和掩模夹是根据不同的样片和掩模尺寸特别设计的。10. 分辨率描述了光刻工艺能够加工的最细线条精度,受光源衍射限制,并与光源、光刻系统、
光刻胶
和工艺等因素相关。11. 对准精度指...
日本JSR考虑韩国设厂能否成功绕过
光刻胶
管制?
答:
尽管日本政府并未完全切断韩国的供应,8月日本已批准对韩国出口
EUV光刻胶
,预计能满足三星
公司
6-8个月的需求。然而,这一举动并未消除韩国和日本企业的不满。韩国作为全球半导体
生产
大国,三星和SK海力士的市场份额之大不容忽视,它们对日本原材料的依赖造成了日本公司自身的利益受损。日本政府试图通过限制...
日本JSR考虑韩国设厂能否成功绕过
光刻胶
管制?
答:
日本政府在7月4日和8月7日连续出台禁令,限制对韩国出口关键材料,特别是光刻胶、氟化聚酰亚胺和氟化氢,这些材料对半导体和面板
生产
至关重要,三星、SK海力士等韩国大型企业依赖于日本的进口供应。尽管日本政府并未完全切断韩国的供应,8月日本已批准对韩国出口
EUV光刻胶
,预计能满足三星
公司
6-8个月的...
韩芯片努力摆脱对日材料依赖,业界称日企将临“安倍破产潮”
答:
朴在勤介绍道,一方面三星电子从比利时的一家企业下单购买6个月需求的货品,韩国本土有两家企业也正在着手建设制造
EUV光刻胶生产
线,虽然这个进程一直在进行,但贸易管制事件爆发以后,明显进程和投入都在加快。 “此外,三星虽然开始重点扶持代工等非系统芯片,但目前主要的盈利来源仍为存储类芯片;因此,不能从目前的一些放缓...
麒麟990 5G的
EUV
工艺如何?
答:
未来已来,EUV 目前唯一可以给EUV供货的
光刻
机
生产
商是荷兰的ASML
公司
,一年可以交付区区30台光刻机,所以现在能用上EUV是一件非常奢侈的事,已知明确使用EUV工艺的目前只有麒麟990 5G。得益于
EUV的
先进性,麒麟990 5G上的晶体管比上一代已经非常惊人的69亿还翻了几乎一倍,达到了极其惊人的103亿!因而也成为了世界首...
光刻
机的难度在哪里
答:
而我们人类的头发丝直径大约是50~70微米,也就是说,光刻
可以刻
画出只有头发丝直径1/5000的线条。前面提到的荷兰ASML
公司
的极紫外光刻机(EUV)是现在全球最顶尖的光刻机设备,相较于DUV,它把193nm的短波紫外线替换成了13.5nm的极紫外线,能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸。
EUV光刻
机的光源...
EUV光刻
机的13.5nm光源是如何实现的?
答:
而xc在常温下为气体,可以直接对其放电产生等离子体,其光源结构简单、造价低,更适合用作极紫外光学系统、掩模版、
光刻胶
等系统检测的中小功率光源。所以2005年之后,
EUV
光源的商业化技术毫无悬念地选择了锡。在确定了锡作为电离材料后,实现电离的方法也出现了3个分支。1、激光激发等离子体技术(LPP)。...
光刻
机对华为有多重要
答:
光刻工艺包括硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂
光刻胶
、软烘、对准曝光、后烘、隐旁键显影、硬烘、刻蚀等多个步骤。其中,精准曝光的控制直接影响到芯片刻蚀的精确度,进而影响到芯片的成功率。6. 芯片制造过程中的曝光需要紫外光源,为了实现纳米级的控制,需要使用极紫外光(
EUV
)。因此,目前芯片制造所...
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