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光刻和刻蚀
ASML是唯一能制造极紫外
光刻
机的厂商,芯片制造到底有多难?
答:
极紫外
光刻
(EUV)使用波长更短的激光(13.5nm),相对于深紫外光刻,需要重新研发
刻蚀
材料、
光刻
胶、刻蚀工艺等等,对精度的要求进一步提高,目前只有荷兰ASML一家公司能制造极紫外光刻机。在这样的情况下,中国芯片产业的发展举步维艰,光刻机包含的关键技术太多,一时半会我们是绕不过去的。
简述自对准硅化物工艺流程
答:
(图1a),接着在硅片上形成新的二氧化硅层;再经过第二次
光刻
,
刻蚀
出栅区,生长栅氧化层;然后,经光刻刻出引线孔,完成蒸铝
和刻
铝等后工序;最后形成MOS晶体管。因为栅区必须在源和漏扩散区正中间,并需要稍覆盖源区和漏区,第二次光刻以及形成铝栅电极的那步光刻,都必须和第一次光刻的位置精确...
台湾有
光刻
机技术吗?
答:
形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上。然后使用化学方法显影,得到刻在硅片上的电路图。一般的
光刻
工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂
光刻
胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光
刻蚀
等工序。
请问台湾有
光刻
机技术么?
答:
形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上。然后使用化学方法显影,得到刻在硅片上的电路图。一般的
光刻
工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂
光刻
胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光
刻蚀
等工序。
为什么台湾能造出
光刻
机
答:
形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上。然后使用化学方法显影,得到刻在硅片上的电路图。一般的
光刻
工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂
光刻
胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光
刻蚀
等工序。
简述自对准硅化物工艺流程
答:
补充资料:自对准技术 微电子技术中利用元件、器件结构特点实现光复印自动对准的技术。早期的 MOS集成电路采用的是铝栅工艺,首先在硅单晶片上热氧化生长一层二氧化硅膜,经第一次
光刻
,在二氧化硅膜上
刻蚀
出源和漏扩散窗口,用扩散法形成源和漏扩散区 (图1a),接着在硅片上形成新的二氧化硅层;再经过第二...
普通小规模集成电路怎样生产,需要
光刻
机吗?
答:
硅晶片切割完成后就需要根据制造的芯片的规模大小和功能进行各种处理方法了,在对硅晶片处理上一般会用到氧化膜的形成法、薄膜的淀积法、
光刻
法、蚀刻法、掺杂法等,因此在硅晶片上进行不同工艺方法的加工,取决于芯片集成度的高低,对于小规模的集成电路,由于集成的晶体管的数量有限,有的步骤是可以省去...
asmlasml
光刻
机
答:
2、
光刻
机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,
光刻
系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、
刻蚀
等工序。 光刻机工作原理 在加工芯片的过程中,光刻机通过一系列的光源能量、形...
台湾有
光刻
机技术吗!
答:
形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上。然后使用化学方法显影,得到刻在硅片上的电路图。一般的
光刻
工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂
光刻
胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光
刻蚀
等工序。
液晶显示器 生产工艺
答:
图1.1显示了彩色TFT-LCD的典型结构, 图1.2图进一步显示了背光灯模组与驱动电路单元的结构。在下玻璃基板的内侧面上,布满了一系列与显示器像素点对应的导电玻璃微板、TFT半导体开关器件以及连接半导体开关器件的纵横线,它们均由
光刻
、
刻蚀
等微电子制造工艺形成,其中每一像素的TFT半导体器件的剖面结构如图1.3所示。在上...
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